The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.5 Semiconductor devices and related technologies

[18p-G203-1~18] 13.5 Semiconductor devices and related technologies

Sun. Mar 18, 2018 1:15 PM - 6:00 PM G203 (63-203)

Masumi Saitoh(TOSHIBA), Kousuke Miyaji(Shinshu Univ.)

3:15 PM - 3:30 PM

[18p-G203-9] Pure CMOS Few-Time Programmable Memories using a Combination of Gate-Ox Anti-fuse and Poly-Si Fuse

Mari Matsumoto1, Masato Oda1, Shinichi Yasuda1 (1.Toshiba R&D Center)

Keywords:memory, FewTime Programmable memory

OTP(One Time Programmable)メモリは1回のみ書き込みが可能な不可逆メモリである。不揮発メモリではその製造に特殊なプロセスが必要となるが、OTPメモリは特殊なプロセスを必要とせずに安価で作製でき、セキュリティ用途等のメモリとして広く利用されている。OTPメモリは、トランジスタの酸化膜破壊を利用したものがよく知られている。我々はこれまでに酸化膜破壊とゲート破断による異なる手法のOTPメモリの提案をおこなっている。本報告では、上記OTPメモリの書き込み手法を応用し、汎用CMOSプロセスでありながらゲート構造および書き込み方法の変更により、複数回書き込みが可能なFTP(Few Time Programmable)メモリの提案を行い、試作・評価した結果を報告する。