[19p-C204-1~17] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [19p-C204-11] パルス変調プラズマ中の準安定 Ar 密度変化と光ダメージの相関

〇武田 直己¹、三好 康史²、石川 健治¹、堤 隆嘉¹、竹田 圭吾³、太田 貴之³、近藤 博基¹、深沢 正永²、辰巳 哲也²、堀 勝¹ (1.名古屋大、2.ソニーセミコンダクタソリューションズ（株）、3.名城大)

キーワード：Ar メタステーブル、パルス変調プラズマ

プラズマエッチングプラズマにおける準安定 Ar 励起種(メタステーブル Ar 4s2)の密度を計測し，パルス変調プラズマにおけるプラズマ光発生に与える影響について考察した。