2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20a-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月20日(火) 09:15 〜 12:15 C101 (52-101)

曽根 正人(東工大)

11:15 〜 11:30

[20a-C101-8] ミニマルファブを用いたTiN SOI-CMOSプロセスの構築

古賀 和博1、柳 永勛2、居村 史人1,2、加瀬 雅2、野田 周一1,2、根本 一正2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.ミニマル推進機構、2.産総研)

キーワード:ミニマルファブ、熱拡散