The 65h JSAP Spring Meeting, 2018

Presentation information

Oral presentation

21 Joint Session K » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[20a-E201-1~9] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Tue. Mar 20, 2018 9:00 AM - 11:30 AM E201 (57-201)

Takayoshi Oshima(Saga Univ.)

11:00 AM - 11:15 AM

[20a-E201-8] Crystal Orientation of NiO Thin Films Formed on β-Ga2O3 Substrates

Shinji Nakagomi1, Takashi Yasuda1, Yoshihiro Kokubun1 (1.Ishinomaki Senshu Univ.)

Keywords:Ga2O3, NiO, orientation

我々は、(100) β-Ga2O3基板上に形成した(001)配向NiO薄膜について既に報告している。本研究では、 (-201)面と(010)面のβ-Ga2O3基板上にゾル-ゲル法によりNiO薄膜を形成し、この両者間の結晶配向関係について総合的に検討を行った。β-Ga2O3基板が異なってもNiO [011] (100) ‖ β-Ga2O3 [001] (100)の位置関係が保たれてNiO配向膜が形成されていることが分かった。