[20p-C101-1~11] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /Interconnect technology/ MEMS/ Integration technology

[20p-C101-11] Cleanroom-Free Environment-Control System PLAD for Minimal fab

〇Takashi Yajima^1,2, Masaharu Yasui^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化と将来の窒素パージのために、差圧制御と気体循環システムを開発してきた。今回、ダイヤフラムポンプなど、実機搭載を予定している機器を用いて、換気性能の評価を行った。実験により、換気性能の指標となる換気効率係数を求めたところ、換気性能は今後改善する余地はあるが、実機搭載においては実用レベルにあると考えられる。