2018年第65回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-C101-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2018年3月20日(火) 13:45 〜 16:45 C101 (52-101)

米谷 玲皇(東大)

16:30 〜 16:45

[20p-C101-11] 局所クリーン化ミニマル環境コントロールシステム-PLAD

谷島 孝1,2、安井 政治1,2、クンプアン ソマワン1,2、前川 仁1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)

キーワード:ミニマルファブ

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化と将来の窒素パージのために、差圧制御と気体循環システムを開発してきた。今回、ダイヤフラムポンプなど、実機搭載を予定している機器を用いて、換気性能の評価を行った。実験により、換気性能の指標となる換気効率係数を求めたところ、換気性能は今後改善する余地はあるが、実機搭載においては実用レベルにあると考えられる。