15:45 〜 16:00 [18p-N302-11] N極性GaN HEMT作製プロセスにおけるプラズマダメージの低減 〇早坂 明泰1、青沼 遼介1、堀田 航史1、金井 七重1、眞壁 勇夫2、吉田 成輝2、宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.住友電気工業)