10:00 〜 10:15 [19a-E305-5] バイアス印加硬X線光電子分光法によるHfO2/SiO2界面ダイポール変調の評価 〇野平 博司1、和⽥ 励虎1、保井 晃2、宮田 典幸3 (1.都市大工、2.高輝度光科学研究センター、3.産総研)