一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学
09:00 〜 09:15
〇渋谷 猛久1、村上 佳久2、近藤 一則1、若木 守明1 (1.東海大工、2.つくば技術大)
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09:15 〜 09:30
〇奥園 大暉1、江上 力1 (1.静岡大院)
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09:30 〜 09:45
〇岡崎 将太1、茨田 大輔1,2 (1.宇大光工学、2.宇大CORE)
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09:45 〜 10:00
〇八重樫 健太1、江畠 佳定1、松井 繁1、内田 功2、青野 宇紀2 (1.日立ハイテク、2.日立研開)
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10:15 〜 10:30
〇寺野 和万1、羽根 一博1、金森 義明1 (1.東北大工)
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10:30 〜 10:45
〇吉尾 里司1、足立 健治1、久保 百司2 (1.住友金属鉱山、2.東北大金研)
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10:45 〜 11:00
〇前田 惇1、伊藤 寛之1、秋山 大地1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
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11:00 〜 11:15
〇田中 洋平1、曲 晨1、田丸 裕基1、五十嵐 裕紀1、淵向 篤1、三浦 泰祐1、藤本 准一1、溝口 計1 (1.ギガフォトン株式会社)
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11:15 〜 11:30
〇岩本 祐輝1、川島 潤也1、庄司 一郎1、古川 保典2 (1.中央大理工、2.OXIDE)
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