一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2019年9月20日(金) 16:00 〜 18:00 PA7 (第一体育館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
16:00 〜 18:00
〇小船 想士朗1、高橋 啓太1、黒瀬 智洋1、入田 賢1、早瀬 仁則1 (1.東京理科大学)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇西田 裕信1、割澤 伸一1、米谷 玲皇1 (1.東大院新領域)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇(M1)高橋 則之1、煤孫 祐樹2、木野 久志3、田中 徹1,2、福島 誉史1,2 (1.東北大院医工、2.東北大院工、3.東北大学際研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇田中 佐和子1、崔 容俊1、石田 誠1、澤田 和明1、石井 仁1、町田 克之2、二階堂 靖彦3、齋藤 光正3、吉田 眞一4 (1.豊橋技科大、2.東工大、3.産業医科大学、4.福岡聖恵病院)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇米谷 玲皇1、上木 瞭太郎1、Penekwong Khemnat1、吉原 健太2、九里 伸治3、池田 克弥3、指田 和之3、吉田 賢一3、山田 一郎3、三田 吉郎2、割澤 伸一1 (1.東大院新領域、2.東大院工、3.新電元)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇大崎 脩仁1,2、荒木 晃子2、金時 拓哉3,1、脇田 慎一1,2、民谷 栄一1,2 (1.産総研-阪大OIL、2.阪大院工、3.大工大院工)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇(M2)宮下 寛也1、ムルガナタン マノハラン1、水田 博1,2 (1.北陸先端大、2.日立ケンブリッジ研)
スケジュール
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16:00 〜 18:00
〇今泉 文伸1、熊田 純久、加藤 岳仁1 (1.小山高専)
スケジュール
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