一般セッション(口頭講演)
[20a-E304-1~10] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス
09:00 〜 09:15
〇小西 智也1、 久保 知佐季1、 鎌田 隼2、 徐 微微1、 香西 貴典1、 藤原 健志1、 鄭 涛1、 釜野 勝1 (1.阿南高専、2.徳大院・先端技)
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09:15 〜 09:30
〇高田 雄矢1、 橋川 凌1、 木野村 淳2、 齋藤 毅2、 岡田 有史1、 若杉 隆1、 角野 広平1 (1.京工繊大、2.京大複合研)
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09:30 〜 09:45
〇(M2)藤井 柊介1、 安達 裕2、 内野 隆司1 (1.神戸大理、2.物材機構)
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09:45 〜 10:00
〇辻村 拓哉1、 内野 隆司1 (1.神戸大理)
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10:00 〜 10:15
〇斎藤 全1、 林 克樹1、 石橋 千英1、 朝日 剛1 (1.愛媛大 理工)
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10:30 〜 10:45
〇北村 直之1、 林堂 孝彦2、 松下 ナナ2、 福味 幸平1、 内山 弘章2、 幸塚 広光2 (1.産総研、2.関大)
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10:45 〜 11:00
〇加納 邦彦1、 山口 貴久1 (1.日本電気硝子株式会社)
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11:00 〜 11:15
Te-Hsun Yang1、 〇(M2)Jia-Hong Jian1、 Jia-Han Li1 (1.National Taiwan Univ.)
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11:15 〜 11:30
〇本間 剛1、 寺澤 みゆり1、 小松 高行1 (1.長岡技科大)
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11:30 〜 11:45
〇篠崎 健二1、 土屋 博樹2、 本間 剛2、 小松 高行2 (1.産総研、2.長岡技科大)
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