2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[18a-E310-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月18日(水) 09:00 〜 11:45 E310 (E310)

船戸 充(京大)、齋藤 義樹(TSオプト)

11:00 〜 11:15

[18a-E310-8] DCスパッタAlNを用いたAlGaN層格子緩和の促進

最上 耀介1,2、大澤 篤史3、尾崎 一人3、谷岡 千丈3、前岡 淳史3、糸数 雄吏1,2、桑葉 俊輔1,2、定 昌史1、前田 哲利1、矢口 裕之2、平山 秀樹1 (1.理研、2.埼玉院理工、3.SCREEN)

キーワード:スパッタ、アニール、歪

AlGaN深紫外LEDは水や空気の殺菌・浄化などの応用が期待され、高効率化、高出力化に向けて研究が進んでいる。ウルツ鉱型の結晶構造を持つAlGaNは歪による分極の効果が大きいことから、AlGaN LEDの特性向上には活性層の歪状態を制御することが重要となる。今回我々は、異なる膜厚のAlNテンプレートを用い、種々の膜厚のAlGaN層に対する緩和率や曲率を調べ、歪制御の可能性を検討した。