The 80th JSAP Autumn Meeting 2019

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.3 Insulator technology

[19a-E305-1~12] 13.3 Insulator technology

Thu. Sep 19, 2019 9:00 AM - 12:15 PM E305 (E305)

Shosuke Fujii(Toshiba Memory), Yasushi Hotta(Univ. of Hyogo)

11:30 AM - 11:45 AM

[19a-E305-10] Effect of substrate type on electrical characteristics of TiN/Hf0.5Zr0.5O2/Si MFS capacitors

Kasidit Toprasertpong1, Kento Tahara1, Taichiro Fukui1, Mitsuru Takenaka1, Shinichi Takagi1 (1.Univ. Tokyo)

Keywords:Ferroelectric, Capacitor, Hysteresis

HfO2系強誘電体が発見されて以来、CMOS LSIにおけるメモリやロジックデバイスを目指した研究が盛んに行われている。一方、強誘電体を用いたデバイスの特性は従来のデバイスより複雑になるため、電気特性の基礎的理解が重要となる。本研究は、HfO2系強誘電体の強誘電性がSi基板上のMFS(金属/強誘電体/半導体)キャパシタの電気特性に与える影響について報告する。