[19a-E305-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[19a-E305-4] 金属/Si構造に対する化学溶液酸化法の検証と評価

〇原田 和輝¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹ (1.東京農工大学院工)

キーワード：半導体