2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19a-N304-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304)

石川 善恵(産総研)、欠端 雅之(産総研)

09:15 〜 09:30

[19a-N304-2] F2レーザーの光化学表面改質法により形成したポリカーボネート上シリコーン改質SiO2膜の耐摩耗性および耐熱性向上

野尻 秀智1、大越 昌幸2 (1.レニアス、2.防衛大電気電子)

キーワード:光化学改質、F2レーザー、シリコーン

自動車用樹脂窓材への適用を目的とし,ポリカーボネート上に形成したシリコーン膜に,メッシュマスクを介してF2レーザーを照射し,シリコーンの一部をSiO2に改質した.SiO2の形成により耐摩耗性が向上したが,さらに膜厚を増すと,逆に耐摩耗性が低下した.そこで,メッシュマスクと試料間の距離を大きくしたところ,SiO2の膜厚によらず良好な耐摩耗性が得られ,同時に耐熱性も改善した。