2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.11 フォトニック構造・現象

[19p-E207-1~9] 3.11 フォトニック構造・現象

2019年9月19日(木) 13:15 〜 15:45 E207 (E207)

石崎 賢司(京大)

14:00 〜 14:15

[19p-E207-4] 局所的な膜厚揺らぎによる高Q値Siナノ共振器の動作波長ばらつき

田中 捺美1、田中 健悟2、浅野 卓2、野田 進2、高橋 和1 (1.大阪府大院工、2.京大院工)

キーワード:フォトニクス

先行研究において我々は,λばらつき低減には,高Q値化と同様に,空気孔揺らぎ(円孔中心と半径)を小さくすることが重要であることを明らかにしてきた.しかしこれまで,作製精度の向上により実験Q値が1000万以上まで増大する一方で,λばらつきは期待されるほどは低減してこなかった.今回,局所的なシリコンスラブの膜厚揺らぎもλばらつきに強く影響していることが示唆されたので報告する.