Helium Ion Beam Lithography with High Patterning Fidelity

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム（technical) » 先端イオン顕微鏡技術って何？ナノスケール材料・デバイスへの展開

2019年9月19日(木) 13:30 〜 17:30 E302 (E302)

中払周(物材機構)、米谷玲皇(東大)、水田博(北陸先端大)、小川真一(産総研)

14:00 〜 14:30

Chien-Lin Lee¹、Jia-Syun Cai¹、Sheng-Wei Chien¹、〇Kuen-Yu Tsai¹ (1.Nat. Taiwan Univ.)

キーワード：helium ion beam, lithography, patterning fidelity