[20a-E304-1~10] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[20a-E304-2] Cu含有シリカガラスにおけるラジオフォトルミネッセンスのCu濃度と熱処理による影響

〇高田 雄矢¹、橋川 凌¹、木野村 淳²、齋藤 毅²、岡田 有史¹、若杉 隆¹、角野 広平¹ (1.京工繊大、2.京大複合研)

キーワード：ラジオフォトルミネッセンス、シリカガラス

放射線照射によって新たな発光が誘起される現象はラジオフォトルミネッセンス（RPL）と呼ばれ，RPLを発現する材料は、被曝線量計などへの応用が期待され，当研究室ではCu含有アルミノホウケイ酸塩ガラスやシリカガラスにおいてRPLを見出した．本研究では，多孔質シリカガラスから作製したCu含有シリカガラス（Cu-SG）におけるRPL現象について調査を行ってきた．本発表ではRPL現象に与えるCu濃度や熱処理の影響を報告する．