[20a-PA4-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[20a-PA4-1] Two-dimensional thin films preparation by PLD using powder target I

〇Hiroharu Kawasaki¹, Tamiko Ohshima¹, Yoshihito Yagyu¹, Takeshi Ihara¹, Masanori Shinohara¹, Yoshiaki Suda² (1.Nat. Ins. Tech, Sasebo Col., 2.Nat. Ins. Tech, Ishikawa Col.)

Keywords:Powder target, PLD

我々はこれまでに、粉体を用いたスパッタリング法やパルスレーザ堆積(PLD)法で薄膜作製を行い、様々な機能性薄膜の低コスト作製に成功してきた。また、多元素を混合させた粉体ターゲット作製時に、粉体が十分に混合されない場合、作製した薄膜に組成の濃度勾配が生じたことがある。これは多元素薄膜の作製には注意すべきリスクであるが、逆に利用すれば、空間分布を持つ薄膜の作製が簡便にできることを示唆している。この結果を利用し、本研究では、多穴型のターゲットホルダを作製し、それを用いて2次元空間分布を持つ多元素薄膜を１度のプロセスでできないか検討した。本報告では粉体PLDを用いた薄膜作製とその結果を示す。