[20p-B31-1~17] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[20p-B31-9] Si基板上へのSi/Gd₂O₃ヘテロ構造のMBE成長

Viviana Fili¹、Wojciech Szuba¹、徐 学俊¹、稲葉 智宏¹、〇俵 毅彦^1,2、尾身 博雄^1,2、後藤 秀樹¹ (1.NTT物性研、2.NTTナノフォトニクスセンタ)

キーワード：希土類酸化膜