[20p-E203-7~19] 3.5 レーザー装置・材料

[20p-E203-15] 半導体検査用ピコ秒パルス可変DUVレーザの高出力化

〇宮田 憲太郎¹、棚橋 晃宏¹、茂原 瑞希²、志村 啓²、中山 伸一³、和田 智之¹ (1.理研、2.日立ハイテク、3.メガオプト)

キーワード：深紫外光

半導体検査用に求められるDUV照明光源の高出力化を実現するため、ピコ秒パルス特性を容易に調整可能としたYb添加ファイバMOPAとその波長変換の高出力化について報告する。