2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20p-E310-1~21] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年9月20日(金) 13:15 〜 19:00 E310 (E310)

岡田 成仁(山口大)、本田 善央(名大)、谷川 智之(阪大)

14:30 〜 14:45

[20p-E310-6] ハイドライド気相成長法によるワイドマスクを有した高品質半極性{20-21}GaNテンプレート上GaNの成長

新宮 章吾1、加納 宗一郎2、岡田 成仁1、ジェ ソン3、ジュン ハン3、只友 一行1 (1.山口大院・創成科学、2.山口大学工学部、3.エール大学)

キーワード:HVPE、半極性、GaN