2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21p-E301-1~7] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2019年9月21日(土) 13:45 〜 15:30 E301 (E301)

佐藤 威友(北大)

14:00 〜 14:15

[21p-E301-2] β-Ga2O3 ショットキーバリアダイオードの電子線照射に対する耐性

林 家弘1、武山 昭憲2、湯田 洋平3、綿引 達郎3、村上 尚4、熊谷 義直4、大島 武2、東脇 正高1 (1.情通機構、2.量研、3.三菱電機、4.東京農工大院工)

キーワード:酸化ガリウム、ショットキーバリアダイオード

β-Ga2O3 は、その4.5 eV と非常に大きなバンドギャップエネルギーから高い放射線耐性を有す
ることが期待され、宇宙や原子力発電所などに代表される複数種の放射線が存在する環境におい
て利用される半導体デバイスの材料として有望である。本研究では、縦型β-Ga2O3 ショットキー
バリアダイオード (SBD) に対して、最大累積線量1×1016 cm-2 までの電子線を段階的に照射し、
そのデバイス特性の変化から電子線照射に対する耐性を評価したので報告する。