河内剛史

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発表者・著者、共著者

2019年3月10日(日) 13:45 〜 18:15 W641 (W641)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.3 酸化物エレクトロニクス

[10p-W641-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

15:00 〜 15:15

[10p-W641-6] シリコンナノ結晶塗布薄膜における酸素空孔フィラメントの形成過程

〇河内剛史¹、加納伸也¹、藤井稔¹ (1.神戸大院工)