2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[10a-M121-1~10] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2019年3月10日(日) 09:00 〜 11:45 M121 (H121)

塩島 謙次(福井大)

09:30 〜 09:45

[10a-M121-3] サブバンドギャップ光を用いたGaN中二次元電界マッピング手法の提案

川崎 晟也1、福島 颯太2、宇佐美 茂佳2、安藤 悠人2、田中 敦之3,4、出来 真斗3、久志本 真希2、新田 州吾3、本田 善央3、天野 浩3,4,5,6 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研、4.物質・材料研究機構、5.赤﨑記念研究センター、6.VBL)

キーワード:窒化ガリウム、pnダイオード、電界観察

GaN基板上縦型pnダイオードの面内電界強度分布の観察手法として、Flantz-Keldysh効果を用いたサブバンドギャップ光によるOBIC測定を行うことで、電界の情報を光電流として取り出すことを提案し、観察を試みた。その結果、GaNエピ層のマクロステップとよく一致したマッピング像が得られ、不純物揺らぎを反映した電界強度分布が観察されたことが示唆された。