9:30 AM - 11:30 AM
[11a-PA5-2] Magnetic Mirror Type Magnetron Sputtering Cathode for Low Gas Pressure Operation
Keywords:Magnetron Sputtering, Plasma Sputtering
プラズマスパッタリングは、半導体産業をはじめとして広く応用されている。その中でもマグネトロンカソードは、さらに高速成膜に有用であるとして一般的に用いられている。先行研究で開発された磁気ミラー型マグネトロンカソードは、マグネトロン放電特有のドーナツ型放電領域をターゲット中心近傍まで伸長させ、ターゲット使用効率を改善し、低パワー密度の直流放電を可能にする。発表では、本カソードの放電特性について述べる。