[11a-W934-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[11a-W934-5] Development of multiple transfer process of Single-Crystalline Slicon Films on Flexible Substrate

〇(M1)Tomotaka Hirano¹, Hiroaki Hanafusa¹, Seiichiro Higashi¹ (1.Graduate School of Advanced Sciences of Matter Hiroshima Univ)

Keywords:low temperature process

本研究室では、フレキシブル基板の耐熱温度以下でCMOS回路の作製・動作が可能であることを報告している。問題点として本技術のTFT形成における課題として、必要な場所のみにパターンを形成しているので、材料利用効率が極めて低いことが挙げられる。よって本研究ではフレキシブル基板にUVオゾン処理を行いて親水・疎水性をパターニングすることで、作製した親水性領域のみに転写される、繰り返し転写可能なプロセスの構築を試みた。