The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[9a-M114-1~12] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Sat. Mar 9, 2019 9:00 AM - 12:00 PM M114 (H114)

Hitoshi Habuka(Yokohama National University), Masato Sone(Tokyo Tech)

10:15 AM - 10:30 AM

[9a-M114-6] Fabrication of Electrically Stabilized Via Contact-Resistance for Half-Inch Sized Package

Fumito Imura1,2, Michihiro Inoue1, Sommawan Khumpuang1,2, Shiro Hara1,2 (1.AIST, 2.Minimal Fab)

Keywords:Minimal Fab

我々はミニマルファブによるハーフインチサイズBGAパッケージの開発を進めている。これまで、ハーフインチウェハのボンディング、モールディング、レーザビア、モールド上再配線形成のプロセス開発を行い、電気的導通を確認してきた。今回、コンタクト抵抗のばらつきを評価しつつ、コンタクト構造の改善を図ったので報告する。