The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[9p-PA1-1~28] 6.4 Thin films and New materials

Sat. Mar 9, 2019 1:30 PM - 3:30 PM PA1 (PA)

1:30 PM - 3:30 PM

[9p-PA1-25] In-situ observation of RT-ALD process on resin films by using infrared absorption spectroscopy

Kensaku Kanomata2, Kazuki Yoshida1, Kentaro Saito1, Masanori Miura2, Bashir Ahmmad1, Shigeru Kubota1, Kazuhiro Hirahara1, Fumihiko Hirose1 (1.Yamagata Univ., 2.ROEL Yamagata Univ.)

Keywords:RT-ALD, Infrared absorption spectroscopy, TDMAS

本研究では、樹脂膜上での原料ガス分子の吸着と酸化過程を赤外吸収分光によって観察し、シリコン上とは挙動が異なることを見出している。研究の一例として、アクリル樹脂膜上とポリエチレン微粒子膜上へのSiO2の堆積過程のその場観察を行い、得られた情報をもとに反応モデルを構築した。発表では樹脂膜上への室温原子層堆積のプロセス設計において、構築したモデルの有用性を議論する。