The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[9p-S223-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Sat. Mar 9, 2019 1:45 PM - 5:00 PM S223 (S223)

Jiro Yamamoto(HITACHI), Jun Taniguchi(Tokyo Univ. of Sci.)

3:30 PM - 3:45 PM

[9p-S223-7] Graphoepitaxy of lamellar-forming block copolymers by coarse-grained molecular dynamics simulations

Toru Yamaguchi1, Hirotaka Tanaka1, Akira Fujiwara1 (1.NTT BRL)

Keywords:lithography, self-assembly, block copolymers

ラメラ相が発現可能な最も小さいA2B2のバネ粒子モデルを用いて、トレンチ構造中での垂直ラメラ相のグラフォエピタキシ成長に関して粗視化分子動力学シミュレーションを行った。ドメイン界面ラフネスについて、実パターンの測定値とほぼ合致した。A2B2のような極端に粗視化したモデルでもラフネス発生の考察に適用でできることが示唆される。