[9p-W834-1~12] 1.6 Ultrasonics

△ [9p-W834-7] High quality ScAlN films grown by using arc-melted and sintered ScAl alloy target sputtering

〇Ningrui Bai^1,2, Rei Karasawa^1,2, Shinji Takayanagi⁴, Makoto Imakawa⁵, Keisuke Morisaka⁵, Yu Suzuki⁵, Takahiko Yanagitani^1,2,3 (1.Waseda Univ., 2.ZAIKEN, 3.JST PRESTO, 4.Nagoya Inst. Tech., 5.FURUYA METAL CO., Ltd.)

Keywords:ScAlN, piezoelectric thin film

アーク溶融合金ターゲット、焼結合金ターゲットおよびSc粒を用いて、スパッタ法で3種類のScAlN薄膜を作製し、結晶性と圧電性を評価した。​アーク溶融合金、焼結合金、Sc粒で作製した薄膜のk_t²はそれぞれ22.0%、20.1％、14.7%であった。​アーク溶融合金と焼結合金ターゲットで成膜したScAlN薄膜は、従来のSc粒を使ったものに比べてk_t²が高い値となった。また、焼結合金とアーク溶融合金は同じ程度のk_t²値となった。