The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.1 Fundamental properties, surface and interface, and simulations of Si related materials

[10p-Z09-1~20] 13.1 Fundamental properties, surface and interface, and simulations of Si related materials

Thu. Sep 10, 2020 12:30 PM - 6:00 PM Z09

Koichiro Saga(Sony), Nobuya Mori(Osaka Univ.), Takashi Hasunuma(Univ. of Tsukuba)

3:30 PM - 3:45 PM

[10p-Z09-12] An examination of the calculation method of the number of secondary electron emission and the validity evaluation with the measurement of sample current

Ryo Nozaki1,2, Kota Ushimaru1,2, Daisuke Kobayashi2, Tomoyuki Yamamoto1, Kazuyuki Hirose1,2 (1.Waseda Univ., 2.ISAS/JAXA)

Keywords:secondary electron emission, sample current, SiO2/Si

X線照射により固体中で励起された1次電子が散乱されることで発生する2次電子に関する理論研究は広く行われている。本研究では、エネルギー保存則を仮定した、これまでより簡便な2次電子数計算方法を提案し、その妥当性をUVSORにおけるSiO2試料電流測定により評価した。測定結果から、本研究の計算方法は概ね正しいことが確認された。さらに異なる成膜方法の試料でも、電子の脱出深さで整理できることを示唆する結果を得られた。