一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:15
〇野本 淳一1、牧野 久雄2、土屋 哲男1、山本 哲也2 (1.産総研先進コーティング技術研究センター、2.高知工科大総研)
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09:15 〜 09:30
〇遠藤 治之1、目黒 和幸1、阿部 貴志1、高橋 強1、柏葉 安兵衛2 (1.岩手県工技センタ、2.岩手大)
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09:30 〜 09:45
〇赤沢 方省1 (1.NTTデバイスイノベーションセンタ)
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09:45 〜 10:00
〇山本 哲也1、野本 淳一2、牧野 久雄1、土屋 哲男2 (1.高知工科大総研、2.産総研)
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10:00 〜 10:15
〇古林 寛1、前原 誠2、酒見 俊之2、北見 尚久1,2、山本 哲也1 (1.高知工科大、2.住友重機械工(株))
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10:15 〜 10:30
〇(M1C)沈 昊哉1、今関 裕貴1、スパワン ナーンプラパーワット1、佐藤 正寛2、藤井 克司3、嶺岸 耕2、中野 義昭1、杉山 正和2 (1.東大院工、2.東大先端研、3.理研)
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10:45 〜 11:00
〇富樫 理恵1、笠羽 遼1、大江 優輝1、長井 研太2、後藤 健2、熊谷 義直2、菊池 昭彦1 (1.上智大理工、2.東京農工大院)
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11:00 〜 11:15
〇(B)廣田 奎史郎1、船越 拓哉2、向井 剛輝1,2 (1.横浜国大理工、2.横浜国大院理工)
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11:15 〜 11:30
〇安田 隆1、白嶋 賢仁1、壹岐 智行1 (1.石専大理工)
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11:30 〜 11:45
〇(D)江間 研太郎1、小川 直紀1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、村上 尚1 (1.農工大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)
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11:45 〜 12:00
〇(M1)小野塚 昂大1、小林 壮1、太子 敏則1、干川 圭吾1,2、大葉 悦子2、小林 拓実2 (1.信州大工、2.不二越機械工業)
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12:00 〜 12:15
〇(M1)高部 守1、小林 壮1、太子 敏則1、干川 圭吾1,2、大葉 悦子2、小林 拓実2 (1.信州大工、2.不二越機械工業)
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