2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[15p-A201-1~15] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2020年3月15日(日) 13:00 〜 17:00 A201 (6-201)

染谷 満(産総研)、野口 宗隆(三菱電機)

15:30 〜 15:45

[15p-A201-10] 界面平坦性から見た極薄金属酸化Al2O3/4H-SiC構造の有用性

土井 拓馬1,2、柴山 茂久1、竹内 和歌奈1,3、坂下 満男1、田岡 紀之1、清水 三聡2、中塚 理1 (1.名大院工、2.産総研・名大GaN-OIL、3.愛知工大)

キーワード:4H-SiC、MOS界面、Al2O3