2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[15p-D215-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2020年3月15日(日) 13:45 〜 16:45 D215 (11-215)

山本 治朗(日立)、谷口 淳(東理大)、川田 博昭(阪府大)

15:30 〜 15:45

[15p-D215-7] COP基板におけるリピート熱ナノインプリントによる表面平坦化と導電性酸化物薄膜の堆積

大賀 友瑛1、大島 淳史1、金子 奈帆1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

キーワード:ナノインプリント、ポリマー、ZnO

シクロオレフィンポリマーは、酸化物薄膜と組み合わせたフレキシブルデバイスへの応用が研究されている。デバイス薄膜の物性制御には結晶配向成長が重要であり、そのためにはポリマー表面の平坦性向上やパターンの微細化が必要である。超平坦ポリマー基板上の高結晶配向膜の合成を目的として、ポリマー基板表面へのリピート熱ナノインプリントによる原子レベルパターン形成と平坦性向上およびZnO薄膜成長への効果を検討した。