一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
09:00 〜 09:15
〇飯田 悠斗1、立田 実花1、宮地 悟代1 (1.東京農工大)
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09:15 〜 09:30
〇(D)服部 隼也1、伊藤 佑介1、杉田 直彦1 (1.東大院工)
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09:30 〜 09:45
〇井濱 雅弘1、水口 佑太1、有村 恒良2、竹中 啓輔3、吉田 徳雄3、佐藤 雄二3、吉田 実2、塚本 雅裕3 (1.阪大院工、2.近大院理工、3.阪大接合研)
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09:45 〜 10:00
〇山田 涼平1、櫻井 治之2、小西 邦昭1、三尾 典克1、湯本 潤司1、五神 真1 (1.東大院理、2.東大物性研)
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10:00 〜 10:15
〇(D)川野 将太郎1、玉光 未侑1、櫻井 治之2、小西 邦昭1、井手口 拓郎1、湯本 潤司1、五神 真1 (1.東大院理、2.東大物性研)
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10:30 〜 10:45
〇枝窪 南1、Ihlemann Juergen2、宮地 悟代1 (1.東京農工大、2.ゲッチンゲンナノ工学研)
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10:45 〜 11:00
〇(M1)長井 大輔1,2、宮地 悟代1、吉富 大2、奈良崎 愛子2 (1.東京農工大、2.産総研)
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11:00 〜 11:15
〇三村 一暉1、坂東 賢哉1、山口 誠2、岡田 達也1、富田 卓朗1 (1.徳島大、2.秋田大理工)
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11:15 〜 11:30
〇奥野 達也1、下間 靖彦1、清水 雅弘1、三浦 清貴1 (1.京大院工)
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11:30 〜 11:45
〇(P)Francesc CaballeroLucas1、Shota Kawabata1,2、Kotaro Obata1、Godai Miyaji2、Koji Sugioka1 (1.RIKEN RAP、2.Tokyo Univ. of A. & T.)
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11:45 〜 12:00
〇木内 康平1、矢野下 瑠星1、栗田 寅太郎1、下間 靖彦1、藤原 正規2、水落 憲和2、清水 雅弘1、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.京大化研)
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