一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2021年9月11日(土) 13:00 〜 15:30 S202 (口頭)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇中村 卓磨1、Badarla Venkata Ramaiah1、橋本 和樹1、Schunemann Peter2、井手口 拓郎1 (1.東大理、2.BAE Systems)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇(D)鈴木 杏奈1、Kränkel Christian2、戸倉川 正樹1 (1.電通大レーザー研、2.IKZ)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇(M1)三井 崚平1、鈴木 杏奈1、湯本 正樹2、戸倉川 正樹1 (1.電通大レーザー研、2.理研)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇(M1)大村 勇索1、木野 彩子1、松浦 祐司1 (1.東北大医工)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M1)勝瀬 橘1、吉田 英次1、椿本 孝治1、中田 芳樹1、白神 宏之1 (1.阪大レーザー研)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)平川 裕人1、小坂 悠起2、椿本 孝治1、白神 宏之1、中田 芳樹1 (1.大阪大学、2.日揮グローバル)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇鈴木 喜晴1、王 暁民1、関口 翔大1、多久島 裕一1、佐藤 和夫2、横山 弘之2 (1.オプトクエスト、2.東北大NICHe)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(M2)葉 聖鴻1、明 車1、猛 久保木1、和利 加藤1 (1.九州大シス情)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)加藤 大地1、古瀬 裕章1、堀内 尚紘2、森田 孝治3、金 炳男3、鈴木 達3 (1.北見工大、2.東京医科歯科大、3.物材機構)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(P)David Hernandez1、Barun Kumar Barman1、Naoki Furuhata1、Satoshi Ishii1、Tadaaki Nagao1,2 (1.MANA, NIMS、2.Hokkaido Univ.)
スケジュール
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