13:00 〜 13:15
〇(D)Diki Purnawati1、Juan Paolo Bermundo1、Michael Paul Jallorina1、Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST)
一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2021年9月12日(日) 13:00 〜 18:15 N206 (口頭)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇(D)Diki Purnawati1、Juan Paolo Bermundo1、Michael Paul Jallorina1、Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST)
13:15 〜 13:30
〇(D)Umu Hanifah1、Juan Paolo Bermundo1、Dianne Corsino1、Mutsunori Uenuma1、Yukiharu Uraoka1 (1.Nara Institute of Science and Technology)
13:30 〜 13:45
〇(M2)高根 倫史1、柳生 慎悟2、四戸 孝2、金子 健太郎1 (1.京大院工、2.(株)FLOSFIA)
13:45 〜 14:00
〇(M2)長島 陽1、廣瀬 靖1、土井 雅人1、福本 通孝1、長谷川 哲也1 (1.東大院理化)
14:00 〜 14:15
〇(M2)土橋 優香1、菊地 直人2、簔原 誠人2、三溝 朱音1、西尾 圭史1 (1.東理大、2.産総研)
14:15 〜 14:30
〇山田 英明1、小松 凌也1、山田 直臣1 (1.中部大院工)
14:45 〜 15:00
〇太田 茉莉香1、宇野 和行1 (1.和歌山大システム工)
15:00 〜 15:15
〇(M2)渡邉 一樹1、甲斐 稜也1、大賀 友瑛1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
15:15 〜 15:30
〇梶田 優気1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大)
15:30 〜 15:45
〇(M1)入田 一輝1、岡田 丈1、橋本 風渡1、田中 一1、森 伸也1 (1.阪大院工)
15:45 〜 16:00
〇西河 巴賀1、塚越 真悠子1、後藤 健2、村上 尚2、熊谷 義直2、谷川 智之1、上向井 正裕1、片山 竜二1 (1.阪大院工、2.農工大)
16:00 〜 16:15
〇(M1)小倉 有莉1、新田 悠汰1、池之上 卓己2、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京工繊大、2.京大)
16:15 〜 16:30
〇(D)Sayleap Sdoeung1、Chaman Islam1、Satoshi Masuya2、Kohei Sasaki2、Katsumi Kawasaki3、Jun Hirabayashi3、Akito Kuramata2、Makoto Kasu1 (1.Saga Univ.、2.Novel Crystal Technology、3.TDK)
16:45 〜 17:00
〇(D)Mian Wei1、Lizhikun Gong1、Rui Yu1、Hai Jun Cho2、Hiromichi Ohta2、Tsukasa Katayama2 (1.IST-Hokkaido Univ.、2.RIES-Hokkaido Univ.)
17:00 〜 17:15
〇尾沼 猛儀1、高坂 亘1、工藤 幹太1、太田 優一2、山口 智広1、金子 健太郎3、藤田 静雄3、本田 徹1 (1.工学院大、2.都産技研、3.京大院工)
17:15 〜 17:30
〇小川 広太郎1,2、高坂 亘2、工藤 幹太2、芹澤 和泉1、金子 健太郎3、山口 智広2、藤田 静雄3、本田 徹2、尾沼 猛儀2 (1.オーク製作所、2.工学院大、3.京大院工)
17:30 〜 17:45
〇高坂 亘1、小川 広太郎2,1、金子 健太郎3、山口 智広1、藤田 静雄3、本田 徹1、尾沼 猛儀1 (1.工学院大学、2.オーク製作所、3.京都大学)
17:45 〜 18:00
〇(B)山下 竜生1、Li Chaoyang1 (1.Kochi Univ. of Tech.)
18:00 〜 18:15
〇(D)大賀 友瑛1、金子 奈帆1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)
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