13:00 〜 13:15
〇山下 修平1、城川 潤二郎1、柳生 慎悟2、四戸 孝2、荒木 努1 (1.立命館大理工、2.(株)FLOSFIA)
一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2021年9月13日(月) 13:00 〜 16:45 S201 (口頭)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇山下 修平1、城川 潤二郎1、柳生 慎悟2、四戸 孝2、荒木 努1 (1.立命館大理工、2.(株)FLOSFIA)
13:15 〜 13:30
〇(M1)三木 隼之介1、飯村 隆介2、宮本 将伸1、嶋津 亮1、山腰 茂伸2、佐々木 公平2、倉又 郎人2、三木 一司1 (1.兵庫県立大工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)
13:30 〜 13:45
〇(M1)三木 隼之介1、宮本 将伸1、嶋津 亮1、前川 雅樹2、飯村 隆介3、唐 佳藝1、河裾 厚男2、山腰 茂伸3、倉又 郎人3、佐々木 公平3、三木 一司1 (1.兵庫県立大工、2.量研機構高崎、3.ノベルクリスタルテクノロジー)
13:45 〜 14:00
〇(M2)高月 大輝1、東脇 正高2、清水 康雄3、大野 裕3、永井 康介3、重川 直輝1、梁 剣波1 (1.大阪市大、2.情報通信研究機構、3.東北大金研)
14:00 〜 14:15
〇Zhenwei Wang1、Daiki Takatsuki2、Jianbo Liang2、Naoteru Shigekawa2、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Osaka City Univ.)
14:15 〜 14:30
〇(M2)北原 智輝1、島田 和宏2 (1.関東学院大院工、2.関東学院大理工)
14:30 〜 14:45
〇平石 雅俊1、岡部 博孝1、幸田 章宏1,2、門野 良典1,2、井手 啓介3、神谷 利夫3,4、細野 秀雄4 (1.高エネ研、2.総研大、3.東工大フロンティア研、4.東工大元素センター)
15:00 〜 15:15
〇後藤 健1、田中 那実1、西村 太郎1、池永 和正1,2、石川 真人3、町田 英明3、熊谷 義直1 (1.東京農工大工、2.大陽日酸、3.気相成長)
15:15 〜 15:30
〇神野 莉衣奈1、奥村 宏典1 (1.筑波大数理)
15:30 〜 15:45
〇(M2)Muhidul Islam Chaman1、Keigo Hoshikawa2、Makoto Kasu1 (1.SAGA UNIVERSITY、2.SHINSHU UNIVERSITY)
15:45 〜 16:00
〇(P)Verdad Canila Agulto1、Toshiyuki Iwamoto2、Kazuhiro Toya1、Valynn Katrine Mag-usara1、Ken Goto3、Hisashi Murakami3、Yoshinao Kumagai3、Makoto Nakajima1 (1.Osaka University、2.PNP、3.TUAT)
16:00 〜 16:15
〇山崎 裕貴1、木下 堅太郎1、今田 陵斗1、相川 健喜1、門馬 智亮1、菊池 昭彦1,2,3 (1.上智大理工、2.上智大フォトニクス研究センター、3.上智大半導体研究所)
16:15 〜 16:30
〇高橋 勲1、富田 健稔1、菅原 孝昌2、庄子 育宏1、Kochurikhin Vladimir1、鎌田 圭1,2、柿本 浩一3、吉川 彰1,2 (1.㈱C&A、2.東北大、3.九大)
16:30 〜 16:45
〇金子 真大1、堀江 竜斗1、梶田 優気1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)
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