[11a-N401-1~5] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[11a-N401-2] Surface Property Control for 193nm Immersion Resist by the Si material addition

〇Chen Tang¹, Atsushi Sekiguchi^2,3, Masaaki Yasuda³, Yoshihiko Hirai³ (1.Shanghai Sinyang Semi. Mater. Co., Ltd, 2.LTJ Co., Ltd, 3.Osaka Pref. Univ.)

Keywords:ArF, liquid erosion, resist

ArF液浸用レジストは、ArFドライレジストを異なり、レジスト表面と露光機のレンズの間に液浸液が存在する。そのため、PAGの液浸液への溶出や、レジスト表面に液浸液が残ってしまい、ディフェクトとなるウォーターマークなどが問題となる。そこで、ArF液浸レジストにF系添加材を加えることで、プリベーク後にレジスト表面にF偏析層を形成して、PAGのリーチングを防ぎ、また、液浸液との接触角を上げて、水追従性の向上が検討されている。しかし、Fは、ドライエッチング耐性が低いという問題があった。そこで、我々は、Fの代わりにSi系添加材を用いると事で、PAGのリーチングの防止、液浸液との接触角を向上させると共に、ドライエッチング耐性も高めた、新たなArF液浸露光用レジストを開発したので、報告する。