2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11a-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

2021年9月11日(土) 09:00 〜 11:40 S301 (口頭)

百瀬 健(東大)、近藤 博基(名大)

11:10 〜 11:40

[11a-S301-7] 酸化物と有機金属錯体を経由したコバルトのThermal ALE

藤崎 寿美子1、山口 欣秀1、小林 浩之1、篠田 和典1、山田 将貴1、濱村 浩孝1、川村 剛平2、伊澤 勝2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)

キーワード:ALE、コバルト、有機金属錯体