2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11p-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス;表面反応ダイナミクスの理解と制御

2021年9月11日(土) 13:30 〜 16:55 S301 (口頭)

関根 誠(名大)、金 載浩(産総研)