[11p-S301-1~7] 未来デバイス製造のためのアトミックレイヤープロセス；表面反応ダイナミクスの理解と制御

[11p-S301-4] Reactive Ion Etching から Atomic Layer Etching へ

〇野尻 一男¹ (1.ナノテクリサーチ)

キーワード：ALE、RIE、半導体

本講演では，Reactive Ion Etching (RIE) から最先端の Atomic Layer Etching (ALE) に至る流れを，エッチングメカニズムと応用の観点から解説するとともに，今後の展望，日本の大学，研究機関，企業のあるべき姿についても言及する。