[11p-S301-1~7] Atomic layer processes for future device fabrication; Understanding surface reaction dynamics and its control

[11p-S301-5] Development of state-of-the-art atomic-level process and future outlook

〇Masanobu Honda¹, Takayuki Katsunuma¹, Sho Kumakura¹, Yoshihide Kihara¹ (1.Tokyo Electron Miyagi)

Keywords:ALE, ALD

先端微細加工プロセスにおいて要求される、加工形状・CD寸法を実現するためには表面反応を緻密に制御することが重要である。原理的に表面反応の制御性に優れているALE, ALDのコンセプトは様々なエッチング工程に応用され、加工性能のさらなる向上に寄与していくことが期待される。