[12a-N102-1~9] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

△ [12a-N102-6] Evaluation Method of Mechanical Property Change of Silicon Nitride Films Damaged by Plasma Exposure

〇Takahiro Goya¹, Tomohiro Kuyama^1,2, Keiichiro Urabe¹, Koji Eriguchi¹ (1.Kyoto Univ., 2.JSPS Research Fellow)

Keywords:plasma induced damage, mechanical property, silicon nitride film

プラズマ曝露により絶縁膜中に形成される欠陥は，デバイス特性やその信頼性を劣化させる．代表的絶縁膜であるシリコン窒化膜（SiN膜）の電気的信頼性に関しては，様々な手法が確立されているが，機械的物性に関しては，未だ高精度の解析手法は確立していない．本研究では，低誘電率（low-k）膜のダメージ評価に活用されてきたナノインデンテーション法を発展させ，プラズマ曝露によるSiN膜の機械的物性劣化を解析する手法を提案した．