2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[12a-N206-1~9] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2021年9月12日(日) 09:00 〜 11:30 N206 (口頭)

三溝 朱音(東理​大)

10:00 〜 10:15

[12a-N206-5] 固相結晶化過程での Sn 添加 In2O3 薄膜における構造・電気・光学特性の温度依存性

山本 哲也1、古林 寛1、牧野 久雄1、小林 信太郎2、石川 和彦2、稲葉 克彦2 (1.高知工科大総研、2.(株)リガク)

キーワード:透明導電酸化物薄膜、固相結晶化法、酸化インジウム

我々は反応性プラズマ蒸着法により成膜された In2O3 系透明導電膜の固相結晶化効果を検討している. 固相結晶化法とは基板上にアモルファス状態の薄膜を成膜し, その後, 熱アニールなどで多結晶状態の薄膜を得る方法である. 本研究では熱アニールを用い、その条件は大気圧開放系で、昇温割合 5℃/min (非平衡状態)とし、 300 ℃ までの温度領域とした。本発表では熱アニールの構造・電気・光学特性への効果を議論する.