[12p-N102-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [12p-N102-9] 熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御

〇朝本 雄也¹、松田 崇行¹、濱野 誉¹、野間 正男²、長谷川 繁彦³、山下 満⁴、占部 継一郎¹、江利口 浩二¹ (1.京大院工、2.神港精機、3.阪大産研、4.兵庫県立工技センター)

キーワード：真空アーク放電、窒化ホウ素、薄膜堆積

我々は薄膜特性を高度に制御した窒化ホウ素（BN）薄膜堆積技術の確立を目指し，反応性プラズマ支援成膜法（RePAC）と呼ばれる成膜技術を研究している．BN成膜時のイオンフラックスは，薄膜中のsp², sp³結合状態を支配し，薄膜特性を大きく変化させる重要なパラメータである．本研究では，RePACに搭載された熱電子供給型真空アーク放電における放電電流の決定機構と，その機構がイオンフラックスに与える影響について解析する．