2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

[12p-N305-1~14] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価

2021年9月12日(日) 13:30 〜 17:15 N305 (口頭)

塩島 謙次(福井大)、牧山 剛三(住友電工)

16:45 〜 17:00

[12p-N305-13] サブミクロン Ga2O3 MOSFETの高周波パワー特性

上村 崇史1、Roberto Quaglia2、Martin Kuball3、Paul Tasker2、東脇 正高1 (1.情通機構、2.Cardiff Univ.、3.Univ. of Bristol)

キーワード:酸化ガリウム、高周波FET、ロードプル

Siイオン注入ドーピングを用いてチャネルとコンタクトを形成したGa2O3 MOSFETの1 GHz ロードプル測定を行い、RF入出力特性を評価した。
入力側のインピーダンスが高すぎたことで整合が取れておらず、最適条件で得られた結果でないが、入力電力3.9 dBmの条件で、最大出力電力17.6 dBmが得られた。電力密度に換算すると580 mW/mmとなり、Ga2O3 FETとしては良好な値であった。