2021年第82回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[12p-N406-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2021年9月12日(日) 13:00 〜 16:15 N406 (口頭)

佐々木 拓生(量研機構)、朝日 重雄(神戸大)

14:00 〜 14:15

[12p-N406-5] GaNAsBi/GaAs多重量子井戸構造のMBE成長

長谷川 将1、川田 大夢1、青木 竜哉1、西中 浩之1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)

キーワード:半導体、多重量子井戸、分子線エピタキシー