[12p-S203-1~13] 6.3 Oxide electronics

△ [12p-S203-12] Effect of excimer VUV-light on structure and properties of epitaxial NiO thin films

〇(M2)Kenta Kaneko¹, Hiroki Shoji¹, Tomoaki Oga¹, Satoru Kaneko^2,1, Mamoru Yoshimoto¹, Akifumi Matsuda¹ (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:Nickel oxide, Vacuum ultraviolet-light, epitaxial thin films

ドーパントフリーのNiOエピタキシャル薄膜に関して、Xe₂エキシマランプを用いた真空紫外光照射が薄膜構造および物性に与える影響について検討した。エピタキシャルNiO薄膜は、NiO焼結体ターゲットを用いたPLD法によって原子ステップα-Al₂O₃(0001)基板上に堆積され、XRD、AFM、RHEEDにより評価した。得られた薄膜に対して、大気中での真空紫外光照射により、顕著な導電性向上が確認された。講演では、成膜・照射条件による影響についても報告する。